| 发明名称 | 磁记录介质及磁记录再现装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种可靠性高的磁记录介质，其具有以凸部形成记录要素的记录层以及被填充在记录要素之间的凹部中的填充物，即使与磁头接触表面也很难受到损伤，从而可以确实的获得良好的记录、再现特性。磁记录介质(12)包括：在基板(22)上以规定的凹凸图案形成并且以该凹凸图案的凸部形成记录要素(24A)的记录层(24)；和被填充在记录要素(24A)之间的凹部(26)中的填充物(28)，填充物(28)实质上是由Si以及O构成的，且O原子数相对于Si原子数的比率大于等于1.5且小于2。 | ||
| 申请公布号 | CN1825439A | 申请公布日期 | 2006.08.30 |
| 申请号 | CN200610005488.2 | 申请日期 | 2006.01.16 |
| 申请人 | TDK股份有限公司 | 发明人 | 大川秀一;高井充;岛川和也 |
| 分类号 | G11B5/62(2006.01);G11B5/72(2006.01);G11B5/84(2006.01) | 主分类号 | G11B5/62(2006.01) |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 高龙鑫;王玉双 |
| 主权项 | 1.一种磁记录介质，其特征在于，包含有记录层与填充物，该记录层以规定的凹凸图案形成在基板上，并以该凹凸图案的凸部形成记录要素，该填充物被填充在上述记录要素之间的凹部中，该填充物实质上是由Si以及O构成的，O原子数相对于Si原子数的比率大于等于1.5且小于2。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||