发明名称 激光照射装置和激光生热成像方法
摘要 激光照射装置包括用于构图的激光发生器和用于预热的激光发生器。激光生热成像(LITI)方法,包括准备受体衬底;将施主衬底层叠在所述受体衬底上;和将激光束照射到施主衬底的预定区域上,并且使用包括用于构图的激光发生器和用于预热的激光发生器的激光照射装置执行转移。有利地,由用于构图的激光发生器产生的高强度激光束用于防止转移层被侵害,由用于预热的激光发生器产生的激光束同时用于预热,使得不发生边缘断开缺陷,并且即使在受体衬底具有梯级的部分中也可以容易地进行转移。
申请公布号 CN1824518A 申请公布日期 2006.08.30
申请号 CN200610067365.1 申请日期 2006.02.22
申请人 三星SDI株式会社 发明人 姜泰旻;李在濠;李城宅
分类号 B41M5/382(2006.01);B41M5/26(2006.01);B41M3/00(2006.01);H01L51/56(2006.01) 主分类号 B41M5/382(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 马高平;杨梧
主权项 1、一种激光照射装置,包括:用于构图的激光发生器;和用于预热的激光发生器。
地址 韩国京畿道