形成含硅薄膜的方法

摘要

描述了一种在基片表面形成含硅薄膜的方法。在该方法中，将环戊硅烷溶液填入一个槽中，使该槽的内壁表面和环戊硅烷溶液相互接触。随后，从点式UV辐射器辐照光，使光通过槽壁辐照在内壁表面一个区域附近的环戊硅烷溶液上，从而在该区域形成含硅薄膜。因此，通过减少步骤，无需通过热处理来形成含硅薄膜。

主权项

1.一种在基片表面形成含硅薄膜的方法，该方法包括：在包含含硅化合物的溶液和所述基片相互接触的条件下，光辐照该包含含硅化合物的溶液，所述含硅化合物的主链由硅组成，在所述基片和所述溶液之间的接触表面的光辐照区域形成含硅薄膜。