发明名称 光刻投影设备、气体吹扫方法、设备制造方法和吹扫气体提供系统
摘要 光刻投影设备包括支架,所述支架用于支撑图案形成装置,所述图案形成装置用于依照所期望的图案来使投影射束形成图案。所述设备具有用于保持衬底的衬底台,所述投影系统用于把已形成图案的射束投影到衬底的目标部分上。所述设备还具有吹扫气体提供系统,用于在光刻投影设备的部件表面附近提供吹扫气体。所述吹扫气体提供系统包括吹扫气体混合物生成器,用于生成包括至少一种吹扫气体和水分的吹扫气体混合物。所述吹扫气体混合物生成器具有用于向吹扫气体添加水分的补湿器,并且具有与所述吹扫气体混合物生成器相连并且用于在表面附近提供吹扫气体的吹扫气体混合物出口。
申请公布号 CN1826560A 申请公布日期 2006.08.30
申请号 CN200480021018.4 申请日期 2004.07.21
申请人 安格斯公司 发明人 拜平·S·佩尔科;杰弗里·J·施皮格尔曼;罗伯特·S·泽勒;拉塞尔·J·霍姆斯
分类号 G03F7/20(2006.01);G02B27/00(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 永新专利商标代理有限公司 代理人 韩宏
主权项 1.一种吹扫气体混合物提供系统,包括:吹扫气体源;水源;以及吹扫气体混合物生成器,包括用于向吹扫气体添加水分的补湿器,其中所述补湿器包括包含吹扫气流的第一区域以及包含水的第二区域,其中第一和第二区域通过透气膜片分离,所述透气膜片基本上可抵抗液体侵入。
地址 美国明尼苏达