发明名称 光刻中交变移相掩膜的相位/幅度误差的检测方法和系统
摘要 本发明揭示了一种用于检测交变移相掩膜中的相位和幅度误差的方法。在一个作为示例的实施例中,本方法包括让准直光束通过移相掩膜上的一对相邻的移相开孔,然后,记录通过这对相邻开孔的衍射光光束强度作为角位置函数。根据记录的光束强度来确定在其上出现第一衍射级和第二衍射级的角α,其中,α代表从一对对称分布的衍射级的偏离。此外,还根据记录的光束强度来确定最小强度和最大强度,其中,根据确定的α值来计算相位误差,根据所述的最小强度和最大强度来计算幅度误差。
申请公布号 CN1272843C 申请公布日期 2006.08.30
申请号 CN03159777.7 申请日期 2003.09.25
申请人 国际商业机器公司 发明人 伍强;斯科特·布科夫斯基
分类号 H01L21/66(2006.01);H01L21/027(2006.01);G03F7/00(2006.01) 主分类号 H01L21/66(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 黄小临;王志森
主权项 1.一种用于检测交变移相掩膜的相位和幅度误差的方法,此方法包括:让准直光束通过该移相掩膜中的一对相邻的移相开孔;记录作为角位置函数的通过所述此对相邻开孔的衍射光光束强度;根据所述记录的光束强度来确定在其上出现第一衍射级和第二衍射级的角α,其中,α代表从一对对称分布的衍射级的偏离;根据所述记录的光束强度来确定最小强度和最大强度;其中根据所确定的α值来计算所述相位误差,并根据所述最小强度和所述最大强度之比来确定所述幅度误差。
地址 美国纽约州