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发明名称
Dry etching apparatus having a device to remove particles and phase shift mask fabrication method thereof
摘要
申请公布号
KR100615611(B1)
申请公布日期
2006.08.25
申请号
KR20050000995
申请日期
2005.01.05
申请人
发明人
分类号
H01L21/3065
主分类号
H01L21/3065
代理机构
代理人
主权项
地址
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