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发明名称 Cleaning method for the diffusion furnace of the semi-conductor fabricating facility and the assist member for the same
摘要
申请公布号 KR100615603(B1) 申请公布日期 2006.08.25
申请号 KR20040083321 申请日期 2004.10.18
申请人 发明人
分类号 H01L21/22;H01L21/02 主分类号 H01L21/22
代理机构 代理人
主权项
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