| 发明名称 | 蚀刻剂组合物和薄膜晶体管阵列板的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供含有60至75重量％的磷酸(H<SUB>3</SUB>PO<SUB>4</SUB>)、0.5至15重量％的硝酸(HNO<SUB>3</SUB>)、2至15重量％的乙酸(CH<SUB>3</SUB>COOH)和0.1至15重量％的硝酸铝(Al(NO<SUB>3</SUB>)<SUB>3</SUB>)的抗蚀剂组合物。 | ||
| 申请公布号 | CN1821872A | 申请公布日期 | 2006.08.23 |
| 申请号 | CN200610006210.7 | 申请日期 | 2006.01.23 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 金圭祥;林官泽 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01);G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/004(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 柳春琦 |
| 主权项 | 1、一种抗蚀剂组合物，其包含：磷酸；硝酸；乙酸；和硝酸铝。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||