发明名称 光记录介质
摘要 本发明提供了一种光记录介质,包括:一个衬底;一个叠置在衬底上的记录层,记录层具有Ge<SUB>α</SUB>Ga<SUB>β</SUB>Sb<SUB>γ</SUB>Te<SUB>100-α-β-γ</SUB>的配方,其中α是原子百分比从1到5的一个数,β是原子百分比单位中从1到5的一个数,γ是原子百分比单位中从70到80的一个数;以及一个叠置在记录层上的反射层。
申请公布号 CN1822151A 申请公布日期 2006.08.23
申请号 CN200610004988.4 申请日期 2003.01.30
申请人 株式会社理光 发明人 大仓浩子;影山喜之;针谷真人;让原肇;日比野荣子;三浦裕司;水谷未来
分类号 G11B7/243(2006.01) 主分类号 G11B7/243(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 吕晓章;邵亚丽
主权项 1.一种光记录介质,包括:一个衬底;一个叠置在衬底上的记录层,记录层具有GeαGaβSbγTe100-α-β-γ的配方,其中α是原子百分比从1到5的一个数,β是原子百分比单位中从1到5的一个数,γ是原子百分比单位中从70到80的一个数;以及一个叠置在记录层上的反射层。
地址 日本东京都