| 发明名称 | 超透镜薄膜结构的超分辨数字光盘 | ||
| 摘要 | 一种超透镜薄膜结构的超分辨数字光盘，包括超透镜薄膜2和盘基3，其特征在于：还有介电层1，它们依次为介电层1/超透镜薄膜2/盘基3，介电层1是氮化硅SiN或ZnS－SiO<SUB>2</SUB>；超透镜薄膜2是Ag、Au或Ag(x)Au(1－x)合金薄膜，其中x值在0－1之间变化；盘基3带有坑点，坑点尺寸小于380nm，最小坑点尺寸在200nm。该光盘结构，通过使用激光波长为650nm红光，数值孔径为0.60的光学头，实现信息坑点尺寸在200nm及其以上的动态读出。该光盘的单面单层容量达到12－15GB，双面单层的容量达到25－30GB。 | ||
| 申请公布号 | CN1822150A | 申请公布日期 | 2006.08.23 |
| 申请号 | CN200610018281.9 | 申请日期 | 2006.01.23 |
| 申请人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所;查黎 | 发明人 | 魏劲松;施宏仁;侯立松;干福熹 |
| 分类号 | G11B7/24(2006.01);G11B7/254(2006.01);G11B7/257(2006.01);G11B7/244(2006.01) | 主分类号 | G11B7/24(2006.01) |
| 代理机构 | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 | 代理人 | 朱必武 |
| 主权项 | 1、一种超透镜薄膜结构的超分辨数字光盘，包括超透镜薄膜2和盘基3，其特征在于：还有介电层1，它们依次为介电层1/超透镜薄膜2/盘基3，介电层1是氮化硅SiN或ZnS-SiO2；超透镜薄膜2是Ag、Au或Ag(x)Au(1-x)合金薄膜，其中x值在0-1之间变化；盘基3带有坑点，坑点尺寸小于380nm，最小坑点尺寸在200nm。 | ||
| 地址 | 201800上海市800－211邮政信箱 | ||