532纳米波长的高密度深刻蚀石英透射偏振分束光栅

摘要

一种532纳米波长的高密度深刻蚀石英透射偏振分束光栅，该光栅的周期为395－412纳米、刻蚀深度为1.580－1.630微米，光栅的占空比为1/2。其TE偏振光和TM偏振光分别在0级和1级透射，该偏振分束光栅的消光比大于100，TE偏振光的0级透射衍射效率和TM偏振光的1级透射衍射效率分别高于95.42％和96.10％，特别是光栅周期为404纳米，刻蚀深度为1.605微米时，消光比达到1.01×10⁴，TE偏振光0级透射衍射效率为97.13％，TM偏振光1级透射衍射效率为97.77％；本发明制作偏振分束器，具有很高的消光比和透射效率，不必镀金属膜或介质膜，利用全息光栅记录技术或电子束直写装置结合微电子深刻蚀工艺，可以大批量、低成本地生产，刻蚀后的光栅性能稳定、可靠，是偏振分束器的一种重要的实现技术。

主权项

1、一种532纳米波长的高密度深刻蚀石英透射偏振分束光栅，其特征在于该光栅的周期为395-412纳米、刻蚀深度为1.580-1.630微米，光栅的占空比为1/2。