| 发明名称 | 基于能量识别的X射线位相成像非相干散射消除装置 | ||
| 摘要 | 一种基于能量识别的X射线位相成像非相干散射消除装置，包括X射线产生及调制系统，待测物固定装置，和后端X射线调制及探测系统三部分。本发明通过选择不同的滤除材料，能保证有效X射线基本没有损失，波长不变的初级辐射几乎可以全部到达X射线探测器，而消除非相干散射对成像质量的影响。本发明能滤除对人体损伤较大的长波长X射线，使得成像过程对人体或生物组织的损伤达到最小，且具有普遍适用、制作简单、低成本、小体积和稳定性好的特点。 | ||
| 申请公布号 | CN1821866A | 申请公布日期 | 2006.08.23 |
| 申请号 | CN200610024489.1 | 申请日期 | 2006.03.08 |
| 申请人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明人 | 喻虹;韩申生;张帅;彭卫军 |
| 分类号 | G03B42/02(2006.01);G01N23/04(2006.01);A61B6/00(2006.01) | 主分类号 | G03B42/02(2006.01) |
| 代理机构 | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人 | 张泽纯 |
| 主权项 | 1、一种基于能量识别的X射线位相成像非相干散射消除装置，包括X射线产生及调制系统，待测物固定装置和后端X射线调制及探测系统三部分，其特征在于：<1>所述的X射线产生及调制系统由位于防辐射外壳中的X射线发生装置、X射线源调制器和位于防辐射外壳上的X射线出射窗构成；所述的后端X射线调制及探测系统由后端X射线调制器和X射线探测器构成；所述的待测物固定装置置于X射线产生及调制系统与后端X射线调制及探测系统之间；<2>所述的位于防辐射外壳中的X射线发生装置产生X线束的焦点，X射线源调制器和位于防辐射外壳上的X射线出射窗，待测物固定装置，以及后端X射线调制器和X射线探测器同轴； | ||
| 地址 | 201800上海市800－211邮政信箱 | ||