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发明名称
Methods of forming a small contact structure in a semiconductor device and semiconductor devices fabricated using the same
摘要
申请公布号
KR100615090(B1)
申请公布日期
2006.08.23
申请号
KR20040056125
申请日期
2004.07.19
申请人
发明人
分类号
H01L21/28;H01L21/20;H01L21/44;H01L27/24;H01L45/00
主分类号
H01L21/28
代理机构
代理人
主权项
地址
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