| 发明名称 | 光掩模及其制造方法 | ||
| 摘要 | 一种光掩模及其方法。在示例方法中，该光掩模可以通过以下步骤制造：在表面上形成氧化物层；构图所述氧化物层以形成氧化物图案，所述氧化物图案包括多个氧化物图案主体和多个氧化物窗口；用吸收剂填充所述多个氧化物窗口以形成吸收剂图案；以及减少所述多个氧化物图案主体。示例的光掩模可以包括基于氧化物图案的吸收剂图案，其包括多个吸收剂图案主体和多个吸收剂图案窗口。 | ||
| 申请公布号 | CN1821868A | 申请公布日期 | 2006.08.23 |
| 申请号 | CN200610008641.7 | 申请日期 | 2006.02.20 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 金元柱;宋利宪;金锡必;张丞爀;柳元壹;金勳 |
| 分类号 | G03F1/00(2006.01) | 主分类号 | G03F1/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波;侯宇 |
| 主权项 | 1.一种制造光掩模的方法，包括：在表面上形成氧化物层；构图所述氧化物层以形成氧化物图案，所述氧化物图案包括多个氧化物图案主体和多个氧化物窗口；用吸收剂填充所述多个氧化物窗口以形成吸收剂图案；以及减少所述多个氧化物图案主体。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||