发明名称 大型零件抛光设备和抛光方法
摘要 本发明包括:将涡轮机零件夹持在预先确定的位置上的转台(18),转台由支撑元件可旋转地支撑;磨料供应单元,用于把具有作为芯部的弹性材料的磨粒供应到预先确定的位置来作为磨料;以及包括叶轮的抛光头(6),叶轮由叶轮驱动电机(11)高速驱动和转动并且向从磨料供应单元供应的磨粒施加旋转能,抛光头(6)以预先确定的速度朝转台上夹持的涡轮机零件的将被抛光的表面喷射从叶轮的切向方向飞出的磨粒;以及磨料回收单元,用于回收从抛光头(6)射出的为抛光涡轮机零件所提供的磨粒并且将磨粒供应到磨料供应单元中。
申请公布号 CN1822920A 申请公布日期 2006.08.23
申请号 CN200480020174.9 申请日期 2004.04.28
申请人 株式会社东芝 发明人 谷中悟;浅井知;坪井竜介;上村健司;田沼唯士;菊地正孝
分类号 B24C5/06(2006.01);B24C9/00(2006.01) 主分类号 B24C5/06(2006.01)
代理机构 永新专利商标代理有限公司 代理人 王琼
主权项 1.一种大型零件抛光设备,用于以预先确定的速度射出作为磨料的、具有作为芯部的弹性材料的磨粒,并且通过使磨粒碰撞大型零件的将被抛光的表面来进行抛光,所述设备包括:转台,所述转台被旋转地支撑同时将大型零件夹持在预先确定的位置并且由驱动电机驱动;磨料供应单元,其将磨粒供应到预先确定的位置;包括抛光头的抛光设备主体,所述抛光头包括至少一个叶轮,叶轮由叶轮驱动电机驱动并且向从磨料供应单元供应的磨粒施加旋转能,抛光头从叶轮的切向方向朝转台上夹持的大型零件的将被抛光的表面喷射磨粒;以及磨料回收单元,其回收由抛光设备主体喷射到大型零件的将被抛光的表面上的磨粒,并且再次供应到磨料供应单元中。
地址 日本东京