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发明名称 Particle controlling method and plasma processing chamber
摘要
申请公布号 KR100615067(B1) 申请公布日期 2006.08.22
申请号 KR19997002516 申请日期 1999.03.24
申请人 发明人
分类号 H05H1/46;C23C16/505;H01J37/32;H01L21/302;H01L21/31 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
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