| 主权项 |
1.一种无机配向膜之形成方法,系在基材上主要形 成以无机材料所构成之无机配向膜之方法,其特征 系具有 于形成上述基材之上述无机配向膜之面,对于该面 之垂直方向,自仅倾斜特定角度b之方向,照射离 子束之研磨工程, 和于照射上述离子束之上述基材上,形成上述无机 配向膜之成膜工程; 上述研磨工程中,系藉由于上述基材照射上述离子 束,而在上述基材上,形成具有特定方向性之凹部; 上述研磨工程中之上述既定角度b系为2度以上 。 2.如申请专利范围第1项所记载之无机配向膜之形 成方法,其中,上述研磨工程之照射上述离子束时 之上述离子束之加速电压,系400~1400V。 3.如申请专利范围第1项所记载之无机配向膜之形 成方法,其中,上述研磨工程之被照射之上述离子 束之离子束电流,系100~1000mA。 4.如申请专利范围第1项所记载之无机配向膜之形 成方法,其中,上述研磨工程之上述基材之附近之 气压,系在5.010-3Pa以下。 5.如申请专利范围第1项所记载之无机配向膜之形 成方法,其中,上述成膜工程之上述无机配向膜之 形成,系由溅镀法进行之。 6.如申请专利范围第1项所记载之无机配向膜之形 成方法,其中,上述无机材料系以矽之氧化物为主 要成分。 7.一种无机配向膜,其特征系藉由如申请专利范围 第1项至第6项任一项所记载之无机配向膜之形成 方法所形成。 8.如申请专利范围第7项所记载之无机配向膜,其中 ,无机配向膜之平均厚度为0.02~0.3m。 9.一种电子装置用基板,其特征系于基板上具有电 极,和如申请专利范围第7项或第8项所记载之无机 配向膜。 10.一种液晶面板,其特征系具有如申请专利范围第 7项或第8项所记载之无机配向膜,和液晶层。 11.一种液晶面板,其特征系具备一对如申请专利范 围第7项或第8项所记载之无机配向膜,并于一对之 上述无机配向膜之间,具备液晶层。 12.一种电子机器,其特征系具备如申请专利范围第 10项或第11项所记载之液晶面板。 13.一种电子机器,其特征系具有具备如申请专利范 围第10项或第11项所记载之液晶面板之光阀,并至 少使用一个该光阀以投射影像。 14.一种电子机器,系为具有将对应于形成影像之红 色、绿色与蓝色之3个光阀, 和光源, 和将来自该光源之光线分离成红色、绿色与蓝色 之光线,并将上述各种光线导向相对应之上述光阀 之色分离光学系, 和将上述各影像加以合成之色合成光学系, 和投射上述被合成之影像之投射光学系之电子机 器,其特征系上述光阀系具有如申请专利范围第10 项或第11项所记载之液晶面板。 图式简单说明: 第1图系模式性显示本发明的液晶面板的第1实施 形态之纵截面图。 第2图系显示经由本发明的方法所形成的无机配向 膜的部份纵截面图。 第3图系模式性显示基材表面状态之斜视图。 第4图系于基材上形成凹部所使用的研磨装置的模 式图。 第5图系为成膜无机配向膜之离子束溅镀装置的模 式图。 第6图系模式性显示本发明液晶面板的第2实施形 态之纵截面图。 第7图系显示适用本发明电子机器之可携型(或笔 记型)的个人电脑的构成斜视图。 第8图系显示适用本发明电子机器之携带电话机( 含PHS)构成之斜视图。 第9图系显示适用本发明电子机器之数位照相机的 构成斜视图。 第10图系模式性显示适用本发明电子机器之投射 型显示装置的光学系图。 |
