| 主权项 |
1.一种化合物,如下列化学式所示: 其中, A与B环各独立为含有至少一个氮原子之杂芳基; X与Y各独立,二者中至少一者为N; R1至R6各独立为H、C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基 、C3-C8环烷基、C3-C8杂环烷基、芳基、杂芳基、OH 、C1-C6烷氧基、芳氧基、杂芳氧基、NH2、C1-C6烷胺 基、C1-C12二烷胺基、芳胺基、二芳胺基、或卤基; R7为H、C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、C3-C8环烷 基、C3-C8杂环烷基、芳基、或杂芳基;及 m与n各独立为1、2、或3。 2.如申请专利范围第1项所述之化合物,其中A与B环 各为含有一或二个氮原子之杂芳基。 3.如申请专利范围第2项所述之化合物,其中m与n各 为1。 4.如申请专利范围第3项所述之化合物,其中R1至R7 各为H。 5.如申请专利范围第4项所述之化合物,其中X与Y各 为N。 6.如申请专利范围第5项所述之化合物,其中该化合 物为 7.如申请专利范围第1项所述之化合物,其中m与n各 为1。 8.如申请专利范围第7项所述之化合物,其中R1至R7 各为H。 9.如申请专利范围第1项所述之化合物,其中R1至R7 各为H。 10.一种使端粒之G-四股结构体稳定之方法,包括使 端粒与下列化学式所示之化合物接触: 其中, A与B环各独立为含有至少一个氮原子之杂芳基; X与Y各独立为CH或N; R1至R6各独立为H、C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基 、C3-C8环烷基、C3-C8杂环烷基、芳基、杂芳基、OH 、C1-C6烷氧基、芳氧基、杂芳氧基、NH2、C1-C6烷胺 基、C1-C12二烷胺基、芳胺基、二芳胺基、或卤基; R7为H、C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、C3-C8环烷 基、C3-C8杂环烷基、芳基、或杂芳基;及 m与n各独立为1、2、或3。 11.如申请专利范围第10项所述之使端粒之G-四股结 构体稳定之方法,其中A与B环各为含有一或二个氮 原子之杂芳基。 12.如申请专利范围第11项所述之使端粒之G-四股结 构体稳定之方法,其中m与n各为1。 13.如申请专利范围第12项所述之使端粒之G-四股结 构体稳定之方法,其中R1至R7各为H。 14.如申请专利范围第13项所述之使端粒之G-四股结 构体稳定之方法,其中X与Y各为CH。 15.如申请专利范围第14项所述之使端粒之G-四股结 构体稳定之方法,其中化合物为 16.如申请专利范围第13项所述之使端粒之G-四股结 构体稳定之方法,其中X与Y各为N。 17.如申请专利范围第16项所述之使端粒之G-四股结 构体稳定之方法,其中该化合物为 18.如申请专利范围第10项所述之使端粒之G-四股结 构体稳定之方法,其中m与n各为1。 19.如申请专利范围第18项所述之使端粒之G-四股结 构体稳定之方法,其中R1至R7各为H。 20.如申请专利范围第10项所述之使端粒之G-四股结 构体稳定之方法,其中R1至R7各为H。 |
