发明名称 萤光性二酮咯并咯
摘要 本发明系有关一种式I萤光性二酮咯并咯(「DPPs」)(I),其中 A1及A2各自分别表示(II)其中R1、R2及R5至R11定义如申请专利范围第1项,一种其制备方法以及其用于制备墨水、着色剂、添加颜料之涂层用塑胶、非冲击性印刷材料、滤色片、化妆品之用途,或其用于制备聚合物墨水粒子、调色剂、染料雷射及电致发光装置之用途。式I萤光二酮基咯并咯(「DPPs」)具有高度光坚牢度、高度热安定性特别于塑胶具有此等性质。包含式I DPP化合物之发光装置之电能利用效率高,亮度高以及色彩纯度高。
申请公布号 TWI260341 申请公布日期 2006.08.21
申请号 TW091114387 申请日期 2002.06.28
申请人 席巴特制品化学股份有限公司 发明人 山本宏;坛纪久;欧罗夫.沃崑斯特
分类号 C09K11/06;C08K5/3415 主分类号 C09K11/06
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项 1.一种式I萤光性二酮咯并咯 其中R1及R2可相同或相异且系选自C1-C25烷基基群、 烯丙基基群(其等可以C1-C3烷基取代1至3次)、环烷 基基群、烯基基群、环烯基基群、炔基基群、杂 环基群、卤原子、卤烷基、卤烯基、卤炔基、酮 或醛基基群、酯基基群、胺甲醯基基群、矽烷基 基群、矽烷氧基、A3或-CR3R4-(CH2)m-A3,其中R3及R4各 自独立表示氢或C1-C4烷基或苯基,该苯基可以C1-C3 烷基取代1至3次,A3表示芳基,特别是苯基或1-或2- 基,该芳基可以C1-C8烷基及/或C1-C8烷氧基取代1至3 次,以及m表示0、1、2、3或4,其中C1-C25烷基或-CR3R4-( CH2)m-A3(以C1-C25烷基为较佳)可以一个可提高水中溶 解度之官能基基群所取代,例如第三胺基基群、-SO 3-或-PO42-, A1及A2各自独立表示 其中R5至R11可相同或相异且系选自氢、C1-C25烷基 基群、环烷基、芳烷基、烯基、环烯基、炔基、 羟基、巯基基群、烷氧基、烷硫基、芳基醚基群 、芳基硫醚基群、芳基、杂环基群、卤原子、卤 烷基、卤烯基、卤炔基、氰基基群、醛基基群、 羰基基群、羧基基群、酯基基群、胺甲醯基基群 、胺基基群、烷基胺基基群、二(烷基)胺基基群 、硝基基群、矽烷基基群、矽烷氧基基群、经取 代或未经取代之乙烯基基群、经取代或未经取代 之芳基胺基基群以及经取代或未经取代之二芳基 胺基基群,或至少二毗邻取代基R5至R11形成芳香族 或脂肪族稠环系, 其中至少两个毗邻取代基R5至R11形成芳香族或脂 肪族稠环系,或至少一个取代基R5至R11为经取代或 未经取代烯基基群、或经取代或未经取代二芳基 胺基基群。 2.如申请专利范围第1项之萤光性二酮咯并咯, 其中A1及A2各自独立表示 其中R21、R22、R23、R25及R26各自独立为氢、C1-C8烷 基、羟基基群、巯基基群、C1-C8烷氧基、C1-C8烷硫 基、卤原子、卤-C1-C8烷基、氰基基群、醛基基群 、酮基基群、羧基基群、酯基基群、胺甲醯基基 群、胺基基群、硝基基群、矽烷基基群或矽烷氧 基基群, R24为C1-C6烷基基群及 R27及R28各自独立为C6-C24芳基,诸如苯基、1-基、2 -基、4-联苯基、菲基、联三苯基、嵌二基、2 -或9-芴基或基,以C6-C12芳基为较佳,例如苯基、1- 基、2-基、4-联苯基其可未经取代或以例如C1- C8烷基、C1-C8烷氧基或-NR12aNR13a基团取代,其中R12a 及R13a各自独立为C6-C12芳基,例如苯基、1-基、2- 基、4-联苯基,该C6-C12芳基可为未经取代或经取 代的(例如以C1-C8烷基或C1-C8烷氧基取代),或 R12及R13或R12a及R13a与连结于其等之上的氮原子共 同形成5或6员杂环 系环,例如 其中X为O、S 或NR40,其中R40为氢或C1-C8烷基, 特别是 , 其中R29、R30及R31各自独立为氢、C1-C8烷基、C1-C8烷 氧基或-NR32R33基团,其中R32及R33各自独立为 或 ,其中R34为 氢、C1-C8烷基或C1-C8烷氧基。 3.如申请专利范围第2项之萤光性二酮咯并咯, 其中A1及A2各自独立表示 其中R21为氢、C1-C8烷基或C1-C8烷氧基。 4.如申请专利范围第3项之萤光性二酮咯并咯, 其系选自下列组成的组群 其中R1为烯丙基、C1-C8烷基,例如甲基、乙基、正 丙基、异丙基、正丁基、第二丁基、异丁基、第 三丁基、正戊基、2-戊基、3-戊基、2,2-二甲基丙 基、正己基、正庚基、正辛基、1,1,3,3-四甲基丁 基及2-乙基己基,三(C1-C8烷基)矽烷基,诸如三甲基 矽烷基、-CH2-A3、-CHCH3-A3或-CH2-CH2-A3,其中A3表示苯 基,该苯基可以C1-C8烷基取代1或2次,例如3-甲苯基 、3,5-二甲苯基、3,5-二-第三-丁苯基及2,5-及2,6-二 异丙苯基,以及 R21为氢、C1-C4烷基或C1-C4烷氧基。 5.一种电致发光装置,其包含如申请专利范围第1至 4项中任一项之式I萤光性化合物。 6.一种含萤光性二酮咯并咯之组成物,其包含 (a)以有色高分子量有机材料总重计为0.01至50重量% 之如申请专利范围第1项之式I萤光性化合物,以及 (b)以有色高分子量有机材料总重计为99.99至50重量 %之高分子有机材料。 7.如申请专利范围第6项之组成物,其进一步包含 (c)有效量之习用添加剂。 8.如申请专利范围第6项或第7项之组成物,其中该 高分子量有机材料为聚醯胺、聚苯乙烯、以高度 耐冲击性聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯或ABS共聚 物为较佳。 9.一种着色高分子量有机材料之方法,其系经由藉 业界已知方法,将一种如申请专利范围第1项之式I 萤光性化合物掺混于该材料。 10.如申请专利范围第1项之萤光性二酮咯并咯 ,其系用于制备墨水、着色剂、添加颜料之涂层用 塑胶、非冲击性印刷材料、滤色片、化妆品之用 途,或其用于制备聚合物墨水粒子、调色剂、染料 雷射及电致发光装置。
地址 瑞士