发明名称 光记录媒体及资料记录和再生方法
摘要 一种光记录媒体,其包含一基板、一光透射层、及多个记录层在基板与光透射层之间,并且能够藉由将一雷射光束经由光透射层而投射于多个记录层上来记录资料于多个记录层中,及再生在多个记录层中所记录的资料,在该多个记录层中,除了距离光透射层最远的记录层以外,至少一记录层包含一含有Si做为主成分之第一记录膜,及一位于第一记录膜的附近且含有Cu做为主成分之第二记录膜。在如此所建构之光记录媒体中,有可能以所想要的方式来记录资料于距离光透射层最远的记录层中,或者自距离光透射层最远的记录层中再生资料。
申请公布号 TWI260622 申请公布日期 2006.08.21
申请号 TW092117961 申请日期 2003.07.01
申请人 TDK股份有限公司 发明人 井上弘康;柿内宏宪;青岛正贵;三岛康儿
分类号 G11B7/24;G11B7/004 主分类号 G11B7/24
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种光记录媒体,其包含一基板、一光透射层、 及多个记录层在基板与光透射层之间,并且能够藉 由将一雷射光束经由光透射层而投射于多个记录 层上来记录资料于多个记录层中,及再生在多个记 录层中所记录的资料,在该多个记录层中,除了距 离光透射层最远的记录层以外,至少一记录层包含 一第一记录膜,其含有一选自包含Si, Ge, Sn, Mg, In, Zn, Bi及Al之群组中的元素做为主成分,及一第二记 录膜,其位于第一记录膜的附近,且含有一选自包 含Cu, Al, Zn, Ti及Ag之群组中的元素做为主成分。 2.如申请专利范围第1项之光记录媒体,其中,第一 记录膜含有Si做为主成分。 3.如申请专利范围第1项或第2项之光记录媒体,其 中,第二记录膜含有Cu做为主成分。 4.如申请专利范围第2项之光记录媒体,其中,第二 记录膜含有Cu做为主成分。 5.如申请专利范围第1项之光记录媒体,其中,至少 一选自包含Al, Zn, Sn, Mg及Au之群组中,并且和包含 在第二记录膜中做为主成分之元素不同的元素被 添加到第二记录膜中。 6.如申请专利范围第2项之光记录媒体,其中,至少 一选自包含Al, Zn, Sn, Mg及Au之群组中,并且和包含 在第二记录膜中做为主成分之元素不同的元素被 添加到第二记录膜中。 7.如申请专利范围第3项之光记录媒体,其中,至少 一选自包含A1, Zn, Sn, Mg及Au之群组中,并且和包含 在第二记录膜中做为主成分之元素不同的元素被 添加到第二记录膜中。 8.如申请专利范围第1项之光记录媒体,其中,第二 记录膜被形成而使得与第一记录膜相接触。 9.如申请专利范围第2项之光记录媒体,其中,第二 记录膜被形成而使得与第一记录膜相接触。 10.如申请专利范围第3项之光记录媒体,其中,第二 记录膜被形成而使得与第一记录膜相接触。 11.如申请专利范围第4项之光记录媒体,其中,第二 记录膜被形成而使得与第一记录膜相接触。 12.如申请专利范围第1项之光记录媒体,其中,光透 射层具有30m到200m的厚度。 13.如申请专利范围第2项之光记录媒体,其中,光透 射层具有30m到200m的厚度。 14.如申请专利范围第3项之光记录媒体,其中,光透 射层具有30m到200m的厚度。 15.如申请专利范围第4项之光记录媒体,其中,光透 射层具有30m到200m的厚度。 16.如申请专利范围第5项之光记录媒体,其中,光透 射层具有30m到200m的厚度。 17.如申请专利范围第1项之光记录媒体,其进一步 被组构而使得藉由投射具有350nm到450nm之波长的雷 射光束于光记录媒体上来记录资料于其中及自其 中再生资料。 18.如申请专利范围第2项之光记录媒体,其进一步 被组构而使得藉由投射具有350nm到450nm之波长的雷 射光束于光记录媒体上来记录资料于其中及自其 中再生资料。 19.如申请专利范围第3项之光记录媒体,其进一步 被组构而使得藉由投射具有350nm到450nm之波长的雷 射光束于光记录媒体上来记录资料于其中及自其 中再生资料。 20.如申请专利范围第4项之光记录媒体,其进一步 被组构而使得藉由投射具有350nm到450nm之波长的雷 射光束于光记录媒体上来记录资料于其中及自其 中再生资料。 21.如申请专利范围第5项之光记录媒体,其进一步 被组构而使得藉由投射具有350nm到450nm之波长的雷 射光束于光记录媒体上来记录资料于其中及自其 中再生资料。 22.如申请专利范围第6项之光记录媒体,其进一步 被组构而使得藉由投射具有350nm到450nm之波长的雷 射光束于光记录媒体上来记录资料于其中及自其 中再生资料。 23.如申请专利范围第1项之光记录媒体,其进一步 被组构而使得藉由使用一目镜及雷射光束,其数値 孔径NA和波长满足/NA≦640nm并使雷射光束经由 目镜而投射于光记录媒体上,以记录资料于其中及 自其中再生资料。 24.如申请专利范围第2项之光记录媒体,其进一步 被组构而使得藉由使用一目镜及雷射光束,其数値 孔径NA和波长满足/NA≦640nm,并使雷射光束经 由目镜而投射于光记录媒体上,以记录资料于其中 及自其中再生资料。 25.如申请专利范围第3项之光记录媒体,其进一步 被组构而使得藉由使用一目镜及雷射光束,其数値 孔径NA和波长满足/NA≦640nm,并使雷射光束经 由目镜而投射于光记录媒体上,以记录资料于其中 及自其中再生资料。 26.如申请专利范围第4项之光记录媒体,其进一步 被组构而使得藉由使用一目镜及雷射光束,其数値 孔径NA和波长满足/NA≦640nm,并使雷射光束经 由目镜而投射于光记录媒体上,以记录资料于其中 及自其中再生资料。 27.如申请专利范围第5项之光记录媒体,其进一步 被组构而使得藉由使用一目镜及雷射光束,其数値 孔径NA和波长满足/NA≦640nm,并使雷射光束经 由目镜而投射于光记录媒体上,以记录资料于其中 及自其中再生资料。 28.如申请专利范围第6项之光记录媒体,其进一步 被组构而使得藉由使用一目镜及雷射光束,其数値 孔径NA和波长满足/NA≦640nm,并使雷射光束经 由目镜而投射于光记录媒体上,以记录资料于其中 及自其中再生资料。 29.一种光记录媒体,其包含一基板、一光透射层、 及多个记录层在基板与光透射层之间,并且能够藉 由将一雷射光束经由光透射层而投射于多个记录 层上来形成记录记号于多个记录层中,藉以记录资 料于其中,及再生在多个记录层中所记录的资料, 在该多个记录层中,除了距离光透射层最远的记录 层以外,至少一记录层被组构而使得在藉由雷射光 束之照射所形成之记录记号的区域与空白区域间 之光透射比上的差异系等于或低于4%。 30.如申请专利范围第29项之光记录媒体,其中,光透 射层具有30m到200m的厚度。 31.如申请专利范围第29项之光记录媒体,其进一步 被组构而使得藉由投射具有350nm到450nm之波长的雷 射光束于光记录媒体上来记录资料于其中及自其 中再生资料。 32.如申请专利范围第30项之光记录媒体,其进一步 被组构而使得藉由投射具有350nm到450nm之波长的雷 射光束于光记录媒体上来记录资料于其中及自其 中再生资料。 33.如申请专利范围第29项之光记录媒体,其进一步 被组构而使得藉由使用一目镜及雷射光束,其数値 孔径NA和波长满足/NA≦640nm,并使雷射光束经 由目镜而投射于光记录媒体上,以记录资料于其中 及自其中再生资料。 34.如申请专利范围第30项之光记录媒体,其进一步 被组构而使得藉由使用一目镜及雷射光束,其数値 孔径NA和波长满足/NA≦640nm,并使雷射光束经 由目镜而投射于光记录媒体上,以记录资料于其中 及自其中再生资料。 35.一种用以记录及再生资料之方法,其包含将雷射 光束投射于光记录媒体上之步骤,而光记录媒体包 含一基板、一光透射层、及多个记录层,在基板与 光透射层之间,并且能够藉由将一雷射光束经由光 透射层而投射于多个记录层上来记录资料于多个 记录层中,及再生在多个记录层中所记录的资料, 在该多个记录层中,除了距离光透射层最远的记录 层以外,至少一记录层包含一第一记录膜,其含有 一选自包含Si, Ge, Sn, Mg, In, Zn, Bi及Al之群组中的元 素做为主成分,及一第二记录膜,其位于第一记录 膜的附近,且含有一选自包含Cu, Al, Zn, Ti及Ag之群 组中的元素做为主成分,藉以致使雷射光束通过光 透射层,并记录资料于多个记录层中或者自多个记 录层中再生资料。 36.如申请专利范围第35项之用以记录及再生资料 之方法,其中,光记录媒体之第一记录膜含有Si做为 主成分。 37.如申请专利范围第35项之用以记录及再生资料 之方法,其中,光记录媒体之第二记录膜含有Cu做为 主成分。 38.如申请专利范围第36项之用以记录及再生资料 之方法,其中,光记录媒体之第二记录膜含有Cu做为 主成分。 39.如申请专利范围第35项之用以记录及再生资料 之方法,其包含以具有350nm到450nm之波长的雷射光 束照射光记录媒体,藉以记录资料于光记录媒体中 及自光记录媒体中再生资料之步骤。 40.如申请专利范围第36项之用以记录及再生资料 之方法,其包含以具有350nm到450nm之波长的雷射光 束照射光记录媒体,藉以记录资料于光记录媒体中 及自光记录媒体中再生资料之步骤。 41.如申请专利范围第37项之用以记录及再生资料 之方法,其包含以具有350nm到450nm之波长的雷射光 束照射光记录媒体,藉以记录资料于光记录媒体中 及自光记录媒体中再生资料之步骤。 42.如申请专利范围第38项之用以记录及再生资料 之方法,其包含以具有350nm到450nm之波长的雷射光 束照射光记录媒体,藉以记录资料于光记录媒体中 及自光记录媒体中再生资料之步骤。 43.如申请专利范围第35项之用以记录及再生资料 之方法,其包含使用一目镜及雷射光束,其数値孔 径NA和波长满足/NA≦640nm,并使雷射光束经由 目镜而投射于光记录媒体上,藉以记录资料于光记 录媒体中及自光记录媒体中再生资料之步骤。 44.如申请专利范围第36项之用以记录及再生资料 之方法,其包含使用一目镜及雷射光束,其数値孔 径NA和波长满足/NA≦640nm,并使雷射光束经由 目镜而投射于光记录媒体上,藉以记录资料于光记 录媒体中及自光记录媒体中再生资料之步骤。 45.如申请专利范围第37项之用以记录及再生资料 之方法,其包含使用一目镜及雷射光束,其数値孔 径NA和波长满足/NA≦640nm,并使雷射光束经由 目镜而投射于光记录媒体上,藉以记录资料于光记 录媒体中及自光记录媒体中再生资料之步骤。 46.如申请专利范围第38项之用以记录及再生资料 之方法,其包含使用一目镜及雷射光束,其数値孔 径NA和波长满足/NA≦640nm,并使雷射光束经由 目镜而投射于光记录媒体上,藉以记录资料于光记 录媒体中及自光记录媒体中再生资料之步骤。 图式简单说明: 图1系一示意剖面图,显示为本发明之较佳实施例 的光记录媒体之结构。 图2系一示意放大剖面图,显示图1中所示之光记录 媒体。 图3系一示意放大剖面图,显示在以雷射光束来照 射L0层之后,图1中所示的光记录媒体。 图4系显示为本发明较佳实施例之光记录媒体之制 造方法的步骤之图形。 图5系显示为本发明较佳实施例之光记录媒体之制 造方法的步骤之图形。 图6系显示为本发明较佳实施例之光记录媒体之制 造方法的步骤之图形。 图7系显示为本发明较佳实施例之光记录媒体之制 造方法的步骤之图形。 图8系显示工作例2中之光记录媒体样品#4之光透射 比上的差値T怎麽样随着雷射光束的波长而改变 之图表。
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