| 发明名称 |
Photolithographisches System und photolithographes Verfahren zur Erfassung von Verunreinigungen aufder Oberfläche von Wafern |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE10230891(B4) |
申请公布日期 |
2006.08.17 |
| 申请号 |
DE2002130891 |
申请日期 |
2002.07.09 |
| 申请人 |
SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. |
发明人 |
LIM, SUING-JUN |
| 分类号 |
G01B11/24;G01N21/95;G01N21/84;G01N21/956;G03F7/20;H01L21/027 |
主分类号 |
G01B11/24 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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