发明名称 DRAM mit High-K-Dielektrikum-Speicherkondensator und Verfahren zum Herstellen desselben
摘要 Eine dynamische Direktzugriffsspeicherzelle, die einen Transistor umfasst, der in einem Halbleiterkörper gebildet ist. Ein Kondensator ist mit dem Transistor gekoppelt und umfasst eine erste Kondensatorplatte, die aus Silizium gebildet ist. Eine Metallschicht ist benachbart zu und elektrisch gekoppelt mit der ersten Kondensatorplatte. Eine Kondensator-Dielektrikum-Schicht ist benachbart zu der Metallschicht. Die Kondensator-Dielektrikum-Schicht weist ein Material mit einer dielektrischen Konstante größer als ungefähr 5 auf. Eine zweite Kondensatorplatte ist benachbart zu dem Kondensator-Dielektrikum. Der Kondensator kann entweder ein Grabenkondensator oder ein gestapelter Kondensator sein.
申请公布号 DE102006000613(A1) 申请公布日期 2006.08.17
申请号 DE200610000613 申请日期 2006.01.02
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 GOVINDARAJAN, SHRINIVAS
分类号 H01L27/108;H01L21/8242 主分类号 H01L27/108
代理机构 代理人
主权项
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