发明名称 偏光膜及其制造方法,以及使用该偏光膜之光学构件
摘要 本发明系提供具有高偏光度与高透过率的偏光膜及其制造方法,以及使用该偏光膜而构成之偏光板、光学构件;系利用聚乙烯醇(PVA)系膜,将其经乾式单轴多段延伸后,在水洗槽中进行膨润,于含碘水溶液之染色交联槽中交联染色,再将该膜于含PVA交联剂之延伸槽中进行后段延伸,而获得光透过率至少43%,偏光度至少98%之偏光膜。
申请公布号 TW200628856 申请公布日期 2006.08.16
申请号 TW094103605 申请日期 2005.02.04
申请人 力特光电科技股份有限公司 发明人 罗义兴;陈俊雄;刘德厚;郑尧中;张良宝;赖大王;王伯萍;姚淑惠
分类号 G02B5/30 主分类号 G02B5/30
代理机构 代理人 何金涂;林荣琳
主权项
地址 桃园县平镇市平东路659巷37号