发明名称 | 偏光膜及其制造方法,以及使用该偏光膜之光学构件 | ||
摘要 | 本发明系提供具有高偏光度与高透过率的偏光膜及其制造方法,以及使用该偏光膜而构成之偏光板、光学构件;系利用聚乙烯醇(PVA)系膜,将其经乾式单轴多段延伸后,在水洗槽中进行膨润,于含碘水溶液之染色交联槽中交联染色,再将该膜于含PVA交联剂之延伸槽中进行后段延伸,而获得光透过率至少43%,偏光度至少98%之偏光膜。 | ||
申请公布号 | TW200628856 | 申请公布日期 | 2006.08.16 |
申请号 | TW094103605 | 申请日期 | 2005.02.04 |
申请人 | 力特光电科技股份有限公司 | 发明人 | 罗义兴;陈俊雄;刘德厚;郑尧中;张良宝;赖大王;王伯萍;姚淑惠 |
分类号 | G02B5/30 | 主分类号 | G02B5/30 |
代理机构 | 代理人 | 何金涂;林荣琳 | |
主权项 | |||
地址 | 桃园县平镇市平东路659巷37号 |