| 摘要 |
本发明系有关一种楔形微结构阵列之制造方法，其包括一．预备步骤、二．微影成形步骤、三．真空吸取成形步骤、四．微结构成形步骤。本发明以类似X光深刻精密电铸模造成形技术与紫外光固化胶成形微结构。利用微影制程在光阻上成形模穴阵列，在真空腔体内使紫外光固化胶均匀填入模穴阵列，将基板连同光阻倾斜，使紫外光固化胶在模穴阵列内倾斜后曝光固化，再以具光学性质之聚二甲基矽氧烷或紫外光固化胶翻模，进而大量射出制造，兼具可制出不同斜度与尺寸的楔形微结构阵列、制程稳定、生产设备成本低及可提高导光板的正面辉度等特性。 |
