| 摘要 |
一微影装置包括一第一活动元件(诸如一浸没液体供应系统)，其在操作中与一第二活动元件(诸如一基板台)之一表面接触。此外，该微影装置包括一第二元件控制器(诸如一基板台控制器)以控制该第二活动元件之一位置量(position quantity)。归因于毛细管力藉由例如该第一与该第二活动元件之相对于彼此的移动而引起的干扰力干扰该第一与该第二元件之一位置量。为了至少部分地校正由于此等干扰力之该第二活动元件之一位置，该微影装置包括一前馈控制路径以向该第二元件控制器提供一干扰力前馈讯号，该前馈控制路径包括一干扰力估计器以估计自该第一活动元件之一位置量的一干扰力。 |
