发明名称 电浆处理设备
摘要 本发明揭示一种电浆处理设备,其使用在一腔室中所产生之电浆,来执行用于基材之期望处理,该腔室界定于该电浆处理设备中且维持于真空状态。该电浆处理设备包括一冷却器,其有效地冷却一包括在该电浆处理设备中之电极单元,俾以均匀地处理一大型基材。
申请公布号 TW200629986 申请公布日期 2006.08.16
申请号 TW095102932 申请日期 2006.01.25
申请人 爱德牌工程有限公司 发明人 李荣钟;崔浚泳;孙亨圭;李祯彬;李昌根;高英培;金春植
分类号 H05H1/28 主分类号 H05H1/28
代理机构 代理人 蔡坤财
主权项
地址 韩国