软遮罩处理用之隔离/巢套控制

摘要

本方法系包含一种蚀刻处理的方法，其允许对隔离与巢套构造／特征部之间的偏差值(bias)加以调整、及制程之修正，其中隔离构造／特征部必须小于巢套构造／特征部，且其中相较于隔离构造／特征部而言，必须缩小巢套结构／特征部，因而允许修整之关键控制。