发明名称 无机材料膜、无机材料膜构造物、及其制法及转录薄膜
摘要 本发明之课题系提供一种无机材料膜、无机材料膜构造物、及其制造方法及转印薄膜,该无机材料膜、无机材料膜构造物具有低介电常数、且具有高精确度、微细的构造,该转印薄膜具有制造容易、且能够良好地黏附在基板上、并且与感光性光阻剂的黏附亦良好之组成物。本发明之解决手段系提供一种无机材料膜,其系烧至少含有无机粉末之非感光性组成物而得到的多孔性无机材料膜,其中该无机材料膜系空隙面积率为20~65%空隙大小为5~20微米之无机材料膜。提供一种无机材料膜构造物的制造方法,系在基板上设置前述非感光性组成物,在该非感光性组成物上设置感光性组成物,曝光、显像处理后,在非感光性组成物上形成图案,随后锻烧而成。提供一种转印薄膜,系在可挠曲性暂时支撑体上具有由上述非感光组成物所构成的涂布层。
申请公布号 TW200628529 申请公布日期 2006.08.16
申请号 TW094140013 申请日期 2005.11.15
申请人 富士照相软片股份有限公司 发明人 高木良博
分类号 C08K3/40;C08J5/18;B41N1/00;H01J11/02 主分类号 C08K3/40
代理机构 代理人 何金涂;何秋远
主权项
地址 日本