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经营范围
发明名称
研磨基材的方法及组合物
摘要
所揭示者为一用以去除基材表面之导电材料的方法与组合物。在一态样中,提供一可去除基材表面之至少一导电材料的组合物,包括一或多种无机酸,一pH值调节剂,一螯合剂,一钝化聚合性材料,介于约5至约10之间的pH值,及一种溶剂。该组合物可更包括一第二螯合剂。该组合物可用于一单一步骤或两步骤的电化学机械平坦化制程中。所揭示之该研磨组合物及方法可改善自基材表面移除材料(例如,钨)的速率,且降低出现平坦化缺陷的机率。
申请公布号
TW200628575
申请公布日期
2006.08.16
申请号
TW095102658
申请日期
2006.01.24
申请人
应用材料股份有限公司
发明人
毛大新;菅仁和;蔡东辰D TSAI, STAN D.;赵俊滋;卡卢匹亚雷克须玛南;陈良毓
分类号
C09G1/02;H01L21/304
主分类号
C09G1/02
代理机构
代理人
蔡坤财
主权项
地址
美国
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