发明名称 正型光阻组成物及光阻图型之形成方法
摘要 本发明为提供一种可改善EL偏移(EL–margin)与尺寸忠实性(Mask–Lineality)之正型光阻组成物。此正型光阻组成物为含有(A)经由酸之作用而增大硷可溶性之树脂成份,与(B)经由曝光产生酸之酸产生剂成份之正型光阻组成物,前述(B)成份为含有具下述式(b–1)所示阳离子部之盐系酸产生剂(B1),与具下述式(b–2)所示结构之磺酸酯系酸产生剂(B2)。094141161-p01.bmp【式中,R^1”为烷基、烷氧基、卤素原子、或羟基;R^2”、R^3”为各自独立之可具有取代基之芳基或烷基,n为0或1至3之整数】094141161-p02.bmp【式中,R^21’为有机基;R^22’为1价有机基或氰基】。094141161-p01.bmp
申请公布号 TW200628979 申请公布日期 2006.08.16
申请号 TW094141161 申请日期 2005.11.23
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 中川裕介;秀慎一;中山一彦;林亮太郎
分类号 G03F7/028;G03F7/039;G03F7/027;H01L21/027 主分类号 G03F7/028
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本