用于石英光罩电浆蚀刻的方法

摘要

在此提供一种蚀刻石英之方法。在一实施例中，一种蚀刻石英之方法包含：在一蚀刻反应室中提供一薄膜堆叠，该薄膜堆叠具有一石英层，其中该石英层透过一图案化层部分暴露；提供至少一种氟碳制程气体至一制程反应室中；以复数个低于600瓦之功率脉冲偏压石英层，其中该石英层系配置在该制程反应室中之一基材支撑上；并透过一图案化光罩来蚀刻石英层。在此所述之蚀刻石英之方法特别适于用来制造具有经蚀刻之石英部分之光罩。