由图案反转方法所制造之薄膜装置主动矩阵

摘要

本发明系提供一经由一图案反转自我对准压印微影术(SAIL)方法来制造薄膜装置的一主动矩阵之方法。该方法系包括提供一基材及将至少一层材料沉积在基材上。一图案随后系建立在该层材料上，该图案系提供该层材料之至少一经曝露区域及至少一经覆盖区域。经曝露区域系被处理以对于材料提供抗蚀刻性且将图案反转。后续蚀刻系移除易受蚀刻材料，而留存抗蚀刻材料。一薄膜堆积体随后系沉积在留存的抗蚀刻材料上。这些沉积的薄膜随后根据薄膜装置的所需要特征而被加工。