用于曝光一基板的装置,该装置的光罩及修改的照明系统,以及使用该装置在一基板上形成一图案之方法

摘要

本发明揭示一种仅藉由一单一曝光制程即可形成一垂直线／间隔电路图案之曝光装置及该曝光装置之光罩。该光罩包括：一定向于一第一方向之第一线／间隔图案、一定向于一第二方向之第二线／间隔图案、及晶格图案，该等图案可运作为偏光器且占据线／间隔图案之间隔。该曝光装置亦包括一经修改之照明系统。该经修改之照明系统可系一复合偏光照明系统，其具有一遮蔽区域及复数个限界于该遮蔽区域之范围内之光透射区域。该等光透射区域被构造为分别在第一及第二方向上偏振入射于其上之光的偏光器。