供决定Z位置失误/变异及基材台平坦之微影装置及方法LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD FOR DETERMINING Z POSITION ERRORS/VARIATIONS AND SUBSTRATE TABLE FLATNESS

摘要

本发明揭示一种微影投影装置，其包含：一照明系统，其经配置以提供一辐射光束；一支撑物，其经配置以支撑一图案化器件，该图案化器件经配置以在其断面中赋予该光束一图案；一基材台(WT)，其经配置以固持一基材(W)；一投影系统，其经配置以将该图案化辐射投影至该基材(W)之一目标部分上；复数个位准感测器(LS)，其用于感测承载在该基材台(WT)上的一基材于复数个不同位置处的一位准；以及一系统，其用于决定该基材台(WT)之位置。本发明亦提供一控制器，其经配置以引起该基材(W)与该位准感测器阵列之间从进行一第一测量所处的一第一位置到进行进一步测量所处的复数个重叠位置之相对移动；与一计算器，其用于采用该等复数个重叠之测量来计算Z位置失误及／或基材台(WT)不平坦度之一测量及／或该位准感测器(LS)位置／偏移之一测量。