发明名称 正型光阻组成物及使用它之图案形成方法
摘要 本发明揭示一种正型光阻组成物,其包括(A)具有单环或多环脂环烃结构,而且可因酸之作用分解而增加在硷显影剂中之溶解度之树脂,(B)一种在以光化射线与放射线之一处理时可产生酸之化合物,及(F)含30至60质量%之量之氟原子之指定界面活性剂,及一种使用它之图案形成方法。
申请公布号 TW200628984 申请公布日期 2006.08.16
申请号 TW094134963 申请日期 2005.10.06
申请人 富士照相软片股份有限公司 发明人 神田博美;西山文之
分类号 G03F7/039;G03F7/028;H01L21/027 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 何金涂;何秋远
主权项
地址 日本