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发明名称
正型光阻组成物及使用它之图案形成方法
摘要
本发明揭示一种正型光阻组成物,其包括(A)具有单环或多环脂环烃结构,而且可因酸之作用分解而增加在硷显影剂中之溶解度之树脂,(B)一种在以光化射线与放射线之一处理时可产生酸之化合物,及(F)含30至60质量%之量之氟原子之指定界面活性剂,及一种使用它之图案形成方法。
申请公布号
TW200628984
申请公布日期
2006.08.16
申请号
TW094134963
申请日期
2005.10.06
申请人
富士照相软片股份有限公司
发明人
神田博美;西山文之
分类号
G03F7/039;G03F7/028;H01L21/027
主分类号
G03F7/039
代理机构
代理人
何金涂;何秋远
主权项
地址
日本
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