浸液曝光用正型光阻组成物及光阻图型之形成方法

摘要

本发明为一种浸液曝光用正型光阻组成物，其为含有基于酸之作用而增大硷可溶性之树脂成份(A)，与经由曝光而产生酸之酸产生剂成份(B)之浸液曝光用正型光阻组成物，其中，树脂成份(A)为含有，具氢原子之硷可溶性基(i)，且该硷可溶性基(i)之一部份中，其氢原子被下述式(I)所示酸解离性溶解抑制基(I)所取代之树脂(A1)，094134694-p01.bmp【上述式中，Z为脂肪族环式基；n为0或1至3之整数；R^1、R^2各自独立为氢原子或碳数1至5之低级烷基】。094134694-p01.bmp