发明名称 含非线性掩膜层的超分辨结构
摘要 一种用于只读式光盘的含非线性掩膜层的超分辨结构,依次是保护层、非线性反射膜和保护层,其特点是所述的保护层均由配比为硫化锌∶二氧化硅=80∶20复合材料组成;所述的非线性掩膜层由银铟锑碲(Ag<SUB>11</SUB>In<SUB>12</SUB>Sb<SUB>51</SUB>Te<SUB>26</SUB>)复合材料组成。本发明制作成本低廉,工艺简单,不仅可以实现小于超分辨信息记录点的读出,而且所获得的信噪比很高,大于40dB,读出循环性好。
申请公布号 CN1270310C 申请公布日期 2006.08.16
申请号 CN200410017812.3 申请日期 2004.04.15
申请人 中国科学院上海光学精密机械研究所 发明人 张锋;施宏仁;徐文东;王阳;杨金涛;高秀敏;周飞;干福熹
分类号 G11B7/24(2006.01) 主分类号 G11B7/24(2006.01)
代理机构 上海新天专利代理有限公司 代理人 张泽纯
主权项 1、一种含非线性掩膜层的超分辨结构,包括保护层(1)、非线性掩膜层(2)和保护层(3),其特征在于所述的保护层(1)和保护层(3)均由硫化锌∶二氧化硅=80∶20的复合材料组成;所述的非线性掩膜层(2)由银铟锑碲Ag11In12Sb51Te26组成。
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