CMOS图像传感器及其制造方法

摘要

本发明公开了一种CMOS图像传感器及其制造方法，通过消除平坦化层的厚度来改善图像特性。该CMOS图像传感器包括：半导体衬底；多个有源器件，其设置于半导体衬底的预定表面中，用于根据入射光量产生电荷；绝缘中间层，其形成于包括多个有源器件的半导体衬底的整个表面上；滤色器层，其形成于绝缘中间层上，滤色器层包括用于根据波长来分别过滤光的红色、绿色、和蓝色滤色器图样，滤色器图样布置为与多个有源器件相对应；以及多个微透镜，其形成于滤色器层上，其中，将滤色器层平坦化，以使滤色器层的各滤色器图样均具有相同的高度，以容纳多个微透镜。

主权项

1.一种CMOS图像传感器，其包括：半导体衬底；多个有源器件，其设置于所述半导体衬底的预定表面中，用于根据入射光的量产生电荷；绝缘中间层，其形成于包括所述多个有源器件的所述半导体衬底的整个表面上；滤色器层，其形成于所述绝缘中间层上，所述滤色器层包括用于根据波长来分别过滤光的红色、绿色、和蓝色滤色器图样，所述滤色器图样布置为与所述多个有源器件相对应；以及多个微透镜，其形成于所述滤色器层上，其中，所述滤色器层被平坦化，以使所述滤色器层的各滤色器图样均具有相同的高度，以容纳所述多个微透镜。