| 发明名称 | 正型抗蚀剂组合物及使用其形成抗蚀图形的方法 | ||
| 摘要 | 提供了一种正型树脂组合物，它含有：(A)一种树脂组分，它在主链内含有(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并在酯基侧链部分结合了含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团，因此在酸的作用下增加了它在碱中的溶解度；(B)一种能在曝光时产生酸的产酸剂组分；及(C)有机溶剂，其中组分(A)含有下列两种结构单元：丙烯酸酯衍生的结构单元(al)，其包含含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团；及甲基丙烯酸酯衍生的结构单元(al′)，其包含含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团。依据这种抗蚀剂组合物，可形成一种在蚀刻时几乎不出现表面的粗糙和线边缘粗糙，且还提供出色的分辨能力和聚焦范围深度广的抗蚀图形。 | ||
| 申请公布号 | CN1818785A | 申请公布日期 | 2006.08.16 |
| 申请号 | CN200610007165.7 | 申请日期 | 2002.11.29 |
| 申请人 | 东京应化工业株式会社 | 发明人 | 岩井武;久保田尚孝;藤村悟史;宫入美和;羽田英夫 |
| 分类号 | G03F7/039(2006.01);G03F7/16(2006.01);G03F7/20(2006.01);G03F7/26(2006.01) | 主分类号 | G03F7/039(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 陈长会 |
| 主权项 | 1.一种正型抗蚀剂组合物，它含有：(A)一种树脂组分，树脂组分主链内含有(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，在酯基侧链部分结合了包含可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团，由此在酸作用下它在碱中的溶解度增加了；(B)一种曝光时产生酸的产酸剂组分；及(C)一种有机溶剂；其中：所述组分(A)含有下列两种结构单元：丙烯酸酯衍生的结构单元(a1)，其包含含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团；及甲基丙烯酸酯衍生的结构单元(a1′)，其包含含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||