发明名称 半导体装置、半导体装置的制造方法、半导体制造装置和计算机记录介质
摘要 本发明的目的在于提供不增大膜厚,而能抑制电容器电容下降的半导体制造装置。在具有电容器的半导体装置中,电容器具有下部电极、上部电极、以及夹在下部电极与上部电极之间的绝缘膜。下部电极的绝缘层侧的表面被氮化。在下部电极是多晶硅的情况下,通过表面氮化,提高后继工序中热处理时的耐氧化性。特别是在DRAM中,由于电容器的电容增大,所以其效果变大。另外还减少了电容器内部的泄漏电流。
申请公布号 CN1820370A 申请公布日期 2006.08.16
申请号 CN200480019716.0 申请日期 2004.09.22
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 佐佐木胜
分类号 H01L27/108(2006.01);H01L27/04(2006.01);H01L21/8242(2006.01);H01L21/822(2006.01) 主分类号 H01L27/108(2006.01)
代理机构 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人 龙淳
主权项 1、一种半导体装置,具有电容器,其特征在于:所述电容器具有下部电极、上部电极、以及夹在所述下部电极和所述上部电极之间的绝缘膜,所述下部电极的绝缘层侧的表面被氮化。
地址 日本东京