| 发明名称 | 沉积源和包括沉积源的沉积设备 | ||
| 摘要 | 一种具有稳定沉积速度和高重现性的沉积源，以及一种包括沉积源的沉积设备，其中该沉积源包括：具有线形开孔部分的加热室；和包括多个孔并与加热室线形开孔部分相连的盖。盖上形成的孔之间的距离沿加热室的线形开孔部分的长边方向变化。盖上形成的孔的数量沿加热室的线形开孔部分的长边方向也可发生变化。 | ||
| 申请公布号 | CN1818127A | 申请公布日期 | 2006.08.16 |
| 申请号 | CN200510121705.X | 申请日期 | 2005.12.01 |
| 申请人 | 三星SDI株式会社 | 发明人 | 金度根;安宰弘;宋官燮;许明洙;郑锡宪 |
| 分类号 | C23C14/24(2006.01);C23C14/56(2006.01) | 主分类号 | C23C14/24(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 崔幼平 |
| 主权项 | 1、一种沉积源，包括：具有线形开孔部分的加热室；和包括多个孔并与该加热室的该线形开孔部分相连的盖；其中，孔之间的距离沿该加热室的该线形开孔部分的长边方向变化。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||