首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 SYSTEM AND METHOD FOR MONITORING AND CONTROLLING GAS PLASMA PROCESSES
摘要
申请公布号 EP1018088(A4) 申请公布日期 2006.08.16
申请号 EP19980950610 申请日期 1998.09.17
申请人 TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 JOHNSON, WAYNE, L.;PARSONS, RICHARD
分类号 G06F19/00;H01L21/302;G06G7/64;G06G7/66;H01J37/32;H01L21/3065 主分类号 G06F19/00
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com