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发明名称 Deposition apparatus for thin layer with thickness variation
摘要
申请公布号 KR100612866(B1) 申请公布日期 2006.08.14
申请号 KR20040087037 申请日期 2004.10.29
申请人 发明人
分类号 H01L21/20 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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