| 主权项 |
1.一种卷布机之卷布及下布架构,其包括有: 一设于该卷布机上之架体,于该架体侧壁上枢设有 一传动轴,及二相互对应且固设于该架体侧壁上之 块体; 二对应该块体且其上一端枢设于该架体侧壁之挡 止件,并于该挡止件与该块体之间定义出一位移区 间,且该位移区间系设置有一受该传动轴带动之卷 布杆,并供该卷布杆以该传动轴为致位点于该位移 区间内产生一位移行程; 二枢设于该架体上并与该挡止件形成定位关系之 限制件,且该限制件系具备一与该挡止件形成定位 关系以形成该位移区间之第一位置,及一解除该定 位关系并供该限制件与该块体形成一开放角度之 第二位置。 2.如申请专利范围第1项所述卷布机之卷布及下布 架构,其中该架体相对该挡止件系设有一感应器。 3.如申请专利范围第2项所述卷布机之卷布及下布 架构,其中该感应器相对该挡止件位于第一位置时 形成连接关系。 4.如申请专利范围第2或3项所述卷布机之卷布及下 布架构,其中该感应器系电性连接于该卷布机之启 闭电路。 5.如申请专利范围第1项所述卷布机之卷布及下布 架构,其中该挡止件系与该块体呈平行设置。 6.如申请专利范围第1或5项所述卷布机之卷布及下 布架构,其中该挡止件相对该限制件设有一供形成 该定位关系之定位部。 7.如申请专利范围第6项所述卷布机之卷布及下布 架构,其中该挡止件其一端部系以枢轴枢接该架体 。 8.如申请专利范围第1项所述卷布机之卷布及下布 架构,其中该限制件具备有一供施力旋动以形成该 第一及第二位置之施力部。 图式简单说明: 第1图,系本发明之外观立体示意图 第2-1~2-3图,系本发明之局部放大示意图 第3-1~3-2图,系本发明之剖面作动示意图 |
