发明名称 雷射脉冲控制电路
摘要 本发明提供一种可以适当地进行(ε)Epsilon调整的雷射脉冲控制电路,其系在由具有第1及第2发光位准的雷射脉冲来驱动雷射元件时,按照第1发光位准相对于第2发光位准的规定比例进行第1及第2发光位准之设定,根据「以第1发光位准为基准而用以对第2发光位准设定部进行第2发光位准调整的操作量和比率的倒数之间的关系,在规定的第1发光位准情况下必须通过某一点的直线,而且直线的斜率与规定的第1发光位准成比例」之规则性,算出对应于光碟的上述第1发光位准及对应于比率的倒数的操作量,对第2发光位准设定部进行对应于算出的操作量之第2发光位准的设定。
申请公布号 TWI260006 申请公布日期 2006.08.11
申请号 TW094111103 申请日期 2005.04.08
申请人 三洋电机股份有限公司 发明人 田之上胜也;池上健一;山川尚哉
分类号 G11B7/004 主分类号 G11B7/004
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区博爱路35号9楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路35号9楼
主权项 1.一种雷射脉冲控制电路,系与具有以下两个部分 的控制单元相连接:将用以消除记录在光碟的资讯 之雷射元件的第1发光位准设定的第1发光位准设 定部;将用以向上述光碟记录资讯的上述雷射元件 之第2发光位准设定的第2发光位准设定部;当由具 有上述第1及第2发光位准的雷射脉冲来驱动上述 雷射元件时,对上述第1及第2发光位准设定部,按照 上述第1发光位准相对于上述第2发光位准的规定 比例进行上述第1及第2发光位准之设定,其特征在 于: 根据「以上述第1发光位准为基准,而用以对上述 第2发光位准设定部进行上述第2发光位准之调整 的操作量与比率的倒数之间的关系,在规定的上述 第1发光位准情况下必须通过上述某一点的直线, 而且,上述直线的斜率与上述规定的第1发光位准 成比例」之规则性, 算出对应于上述光碟的上述第1发光位准及对应于 上述比率的倒数的上述操作量, 对上述第2发光位准设定部进行对应于上述算出之 操作量的上述第2发光位准的设定。 2.如申请专利范围第1项之雷射脉冲控制电路,其中 , 具有储存用以确认上述规则性的资料的储存部; 在计算上述操作量时,采用储存于上述储存部的用 以确认上述规则性的资料。 3.如申请专利范围第2项之雷射脉冲控制电路,其中 , 将用以确认上述规则性的资料设为某一上述直线 、上述某一点和上述直线的斜率与上述第1发光位 准间的比例系数, 在计算上述操作量时,根据用以确认上述规则性的 资料,决定对应于上述光碟的上述第1发光位准及 对应于上述比率的倒数的上述直线。 4.如申请专利范围第2项之雷射脉冲控制电路,其中 , 采用以规定的上述第1发光位准为基础而抽取且由 上述操作量相对于上述比率的倒数的座标轴决定 的不同的2个座标资料,设定用以确认上述规则性 的资料。 5.如申请专利范围第1项之雷射脉冲控制电路,其中 , 具有储存对应于上述光碟的每个识别资料的上述 第1发光位准及上述比率的储存部, 在计算上述操作量时,从上述储存部取得对应于由 上述光碟读出的上述识别资料的上述第1发光位准 及上述比率。 6.如申请专利范围第1项之雷射脉冲控制电路,其中 , 上述控制单元具有: APC处理部,执行使有关上述雷射元件的上述第1发 光位准的观测位准和指定位准间的偏差减少的自 动功率控制(APC); 上述第1发光位准设定部,根据上述偏差,将上述第1 发光位准设定为上述指定位准;及 上述第2发光位准设定部,将上述第2发光位准设定 为,根据作为用以设定上述第2发光位准的上述操 作量的指定位准移位量而对上述所设定的第1发光 位准进行位准移位之位准; 上述雷射脉冲控制电路,在调整上述第1发光位准 时,系对上述APC处理部指定上述指定位准; 在调整上述第2发光位准时,则对上述第2发光位准 设定部指定上述指定位准移位量。 图式简单说明: 第1图是说明本发明一实施形态之光碟系统的整体 构成的图。 第2图是说明1/和APCATT的关系的图。 第3图是用以说明本发明一实施形态之基准直线的 取得方法的图。 第4图是说明本发明实施形态之基准直线的取得方 法的流程图。 第5图是用以说明本发明实施形态之交点及交叉角 变化率的取得方法的图。 第6图是说明本发明实施形态之交点及交叉角变化 率的取得方法的流程图。 第7图是用以说明利用本发明实施形态之雷射脉冲 控制电路的调整的图。 第8图是说明本发明实施形态之雷射脉冲控制电路 的调整的流程图。 第9图是采用多路脉冲调变方式的雷射脉冲的波形 图。 第10图是说明习知调整的流程图。
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