发明名称 穿透式扫描装置
摘要 一种穿透式扫描装置,包括有扫描器及穿透稿夹模组,其中扫描器包括有主机及枢接于主机的盖体,主机内设有用以扫描的光机模组,光机模组设置有数个发光单元,而穿透稿夹模组设置于主机及盖体间,包括有主体及设置于主体整体外缘的导光元件,主体用以夹置穿透稿,而导光元件之外表面系由入射部、出射部及反射部所组成,入射部邻近主体之一侧边,并对应于发光单元,出射部邻近主体之一侧面,并对应穿透稿,以改变光线入射穿透稿的方向,所以在发光单元发出光线时,光线自入射部入射导光元件,并由反射部反射后,自出射部出射,而经穿透稿到达光机模组,以扫描穿透稿之影像。
申请公布号 TWI260156 申请公布日期 2006.08.11
申请号 TW094107557 申请日期 2005.03.11
申请人 光宝科技股份有限公司 发明人 魏智贤
分类号 H04N1/04 主分类号 H04N1/04
代理机构 代理人 许世正 台北市信义区忠孝东路5段410号4楼
主权项 1.一种穿透式扫描装置,系包含有: 一扫描器,包括有一主机及枢接于该主机的一盖体 ,该主机内设有用以扫描的一光机模组,该光机模 组设置有复数个发光单元;及 一穿透稿夹模组,设置于该主机及该盖体间,包括 有一主体及设置于该主体整体外缘的一导光元件, 该主体用以夹置一穿透稿,而该导光元件之外表面 系由一入射部、一出射部及一反射部所组成,该入 射部邻近该主体之一侧边,并对应于该发光单元, 该出射部邻近该主体之一侧面,并对应该穿透稿, 以改变光线入射该穿透稿的方向,所以在该发光单 元发出光线时,光线自该入射部入射该导光元件, 并由该反射部反射后,自该出射部出射,而经该穿 透稿到达该光机模组,以扫描该穿透稿之影像。 2.如申请专利范围第1项所述之穿透式扫描装置,其 中该发光单元系为发光二极体。 3.如申请专利范围第2项所述之穿透式扫描装置,其 中该发光单元系成一直线排列,部分该发光单元对 应该入射部,并且可选择地使该发光单元发出光线 或不发出光线。 4.如申请专利范围第1项所述之穿透式扫描装置,其 中该光机模组更包括有一灯管,并且在该发光单元 发出光线时,该灯管不发出光线。 5.如申请专利范围第1项所述之穿透式扫描装置,其 中该出射部的表面系为非光滑表面。 6.如申请专利范围第1项所述之穿透式扫描装置,其 中该导光元件之材质可以为选自聚碳酸酯( Polycarbonate)及压克力所成组合之一的高分子材质 。 7.如申请专利范围第1项所述之穿透式扫描装置,其 中该穿透稿夹模组系直接与该扫描器之该盖体结 合。 8.一种导光元件,应用于一穿透稿的扫描,其外表面 系由一入射部、一出射部及一反射部所组成,使光 线自该入射部入射,并由该反射部反射后,自该出 射部出射,而改变光线入射该穿透稿的方向,以作 扫描。 9.如申请专利范围第8项所述之导光元件,其中该出 射部的表面系为非光滑表面。 10.如申请专利范围第8项所述之导光元件,其中该 导光元件之材质可以为选自聚碳酸酯(Polycarbonate) 及压克力所成组合之一的高分子材质。 图式简单说明: 第1图系为本发明之具体实施例的结构图; 第2图系为本发明之第一具体实施例的光机模组与 穿透稿夹模组之相对位置图; 第3图系为本发明之第一具体实施例光机模组之结 构图; 第4图系为本发明之第一具体实施例穿透稿夹模组 及穿透稿之设置关系图; 第5图系为本发明之第一具体实施例使用穿透稿夹 模组时之光线行进方向示意图; 第6图系为本发明之第一具体实施例的使用例图; 第7图系为本发明之第二具体实施例光机模组与穿 透稿夹模组之相对位置图; 第8图系为本发明之第二具体实施例光机模组之结 构图; 第9图系为本发明之第二具体实施例使用穿透稿夹 模组时之光线行进方向示意图; 第10图系为本发明之第二具体实施例的使用例图; 及 第11图系为本发明之第三具体实施例示意图。
地址 台北市内湖区瑞光路392号22楼