发明名称 防眩性反射防止膜之制法
摘要 [课题]赋予防眩性而不会降低抗反射膜的抗反射性能,可适用于高精细显示器。[解决手段]对于抗反射膜11的至少一侧施予压花加工。压花加工系使用压花辊14或压花板来进行加压加工。就压花的凹凸版而言,其算术平均粗度为0.05μm~2.00μm,平均周期50μm以下。压机线压为500N/cm~4000N/cm,又压机压力为5×105Pa~40×105Pa。压花辊14及压花板的表面凹凸系使用直径0.1μm~50μm的珠子藉由珠射法来制作。所得到的抗反射膜11系为防眩性和防晃眼性两者并存,而且耐擦伤性、防污性优良,高精细显示器适合性优良。
申请公布号 TWI259909 申请公布日期 2006.08.11
申请号 TW092116971 申请日期 2003.06.23
申请人 富士照相软片股份有限公司 发明人 林祯;疋田伸治
分类号 G02B1/11;B29C59/04 主分类号 G02B1/11
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼;何秋远 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项 1.一种防眩性抗反射膜之制法,其为藉由压花加工 以赋予薄膜表面凹凸而制造抗反射膜之方法,其特 征为该压花加工所使用的版之凹凸的算术平均粗 度为0.05-2.00m,且该凹凸的平均周期为50m以下 。 2.如申请专利范围第1项之防眩性抗反射膜之制法, 其中该版之制法系为使用直径0.1-50.0m的珠子之 珠射法。 3.如申请专利范围第1或2项之防眩性抗反射膜之制 法,其中该压花加工系以平板压机加工来进行。 4.如申请专利范围第3项之防眩性抗反射膜之制法, 其中在对该薄膜施予压花加工时,薄膜的温度为110 -195℃,且压机压力为5105Pa-40105Pa。 5.如申请专利范围第1或2项之防眩性抗反射膜之制 法,其中该压花加工系以辊压机加工来进行。 6.如申请专利范围第5项之防眩性抗反射膜之制法, 其中在对该薄膜施予压花加工时,薄膜的温度为110 -195℃,且压机线压为500N/cm-4000N/cm。 图式简单说明: 第1图系本发明一实施态样的将防眩性赋予抗反射 膜之步骤的截面图。 第2图系另一实施态样的防眩性赋予方法之截面图 。 第3图系以珠射法来制作版的截面图。 第4图系压花加工后的抗反射膜之截面图。 第5图系压花加工后的抗反射膜之另一实施态样的 截面图。 第6图系压花加工后的抗反射膜之又一实施态样的 截面图。
地址 日本