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经营范围
发明名称
Apparatus for Inductively Coupled Plasma-Chemical Vapor Deposition
摘要
申请公布号
KR100611665(B1)
申请公布日期
2006.08.10
申请号
KR20040096585
申请日期
2004.11.23
申请人
发明人
分类号
C23C16/505
主分类号
C23C16/505
代理机构
代理人
主权项
地址
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