发明名称 化学增幅型阴图PS版用感光组合物以及由此制备的化学增幅型阴图PS版
摘要 本发明提供了一种化学增幅型阴图PS版感光组合物,包含:a)45-90%重量的成膜树脂;b)1-20%重量的交联剂;c)0.1-10%重量的产酸源;d)0.1-5%重量的背景染料;e)1-20%重量的助交联剂或表面抗磨剂;和f)使所述组合物的固含量为5-50%重量的溶剂,其中所述重量百分数基于所述组合物的固体总质量。本发明还提供了一种使用上述感光组合物制备的阴图PS版。用本发明感光组合物所涂制的阴图PS版具有感度高、分辨率好、耐印力强、显影宽容度大以及可以使用传统阳图PS版显影液进行显影等一系列优点。
申请公布号 CN1815364A 申请公布日期 2006.08.09
申请号 CN200510007283.3 申请日期 2005.02.06
申请人 北京师范大学;广西玉林金龙PS版印刷材料有限公司 发明人 余尚先;杨金瑞;顾江楠;张改莲;蒋翔宇;覃建加;钟克西;杨琰
分类号 G03F7/004(2006.01);B41C1/10(2006.01) 主分类号 G03F7/004(2006.01)
代理机构 北京市中咨律师事务所 代理人 刘金辉;林柏楠
主权项 1.一种化学增幅型阴图PS版感光组合物,包含如下组分:a)45-90%重量,优选50-80%重量的成膜树脂;b)1-20%重量,优选5-15%重量的交联剂;c)0.1-10%重量,优选0.5-5%重量的光产酸源;d)0.1-5%重量,优选0.5-2%重量的背景染料;e)1-20%重量,优选3-10%重量的助交联剂或表面抗磨剂;和f)使所述组合物的固含量为5-50%重量,优选10-40%重量的溶剂;其中所述重量百分数基于所述组合物的固体总质量。
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