主权项 |
1.一种半导体器件的制造方法,包括的步骤有:通过热氧化在半导 体基底上形成元件隔离绝缘膜;通过热氧化形成栅绝缘膜;在栅绝缘膜 上淀积500至2500的第一多晶硅膜;用杂质对第一多晶硅膜掺杂使 得杂质浓度为1×10<sup>18</sup>原子/cm<sup>3</sup>或更高以造成第一多晶硅膜的导电类型 为P型;在具有P型导电类型的第一多晶硅膜上淀积500至2500的 高熔点金属硅化物膜;在高熔点金属硅化物膜上淀积500至3000厚 度的绝缘膜;刻蚀具有P型导电类型的第一多晶硅膜、高熔点金属硅化 物膜和绝缘膜以形成叠层的多晶金属硅化物栅电极;用第一导电类型的 杂质以1×10<sup>16</sup>至1×10<sup>18</sup>原子/cm<sup>3</sup>的浓度掺杂第一导电类型MOS晶体 管的低浓度扩散区;用第二导电类型的杂质以1×10<sup>16</sup>至1×10<sup>18</sup>原子/cm<sup>3</sup>的浓度掺杂第二导电类型MOS晶体管的低浓度扩散区;在多晶金属硅 化物栅电极上淀积与多晶金属硅化物栅电极具有同一数量级膜厚度的绝 缘膜;通过各向异性干刻法刻蚀该绝缘膜以便在多晶金属硅化物栅电极 的侧壁上形成侧向间隔物;在元件隔离绝缘膜上淀积500至2500厚 度的第二多晶硅膜;用第二导电类型的杂质以1×10<sup>14</sup>至9×10<sup>18</sup>原子/cm<sup>3</sup>的浓度掺杂第二多晶硅膜的全区或第二多晶硅膜的第一区;用第一导电 类型的杂质以1×10<sup>14</sup>至9×10<sup>18</sup>原子/cm<sup>3</sup>的浓度掺杂第二多晶硅膜的第 二区;刻蚀第二多晶硅膜以形成第二多晶硅膜的电阻器;用第一导电类 型的杂质以1×10<sup>19</sup>原子/cm<sup>3</sup>或更高的浓度掺杂第二多晶硅膜第一区的 部分或全区;用第二导电类型的杂质以1×10<sup>19</sup>原子/cm<sup>3</sup>或更高的浓度 掺杂第二多晶硅膜第二区的部分或全区;在半导体基底的上面形成中间 绝缘膜;在半导体基底上面的中间绝缘膜中形成接触孔;以及在接触孔 中设置金属布线。 |